ZU MEINER PERSON

• Geburtsdatum, -ort: 10.10.1976 in Grozesti, Moldavien
• Familienstand: verheiratet, 2 Kinder (2 + 3)
• Nationalität: moldavische Staatsangehörigkeit
• Visum für Deutschland: niederlassungserlaubnis
• Arbeitserlaubnis: vorhanden

SCHULISCHE AUSBILDUNG

08.1983 - 06.1991

• Institution: Grundschule, Grozesti, Moldavien
• Abschluss: Grundschulabschluss
• Gesamtnote: 9,8 (gut = 9, sehr gut = 10)

07.1991 - 06.1994

• Institution: Informatik Gymnasium, Chisinau, Moldavien
• Fachausrichtung: Informatik
• Abschluss: Abitur
• Gesamtnote: 9,2 (gut = 9, sehr gut = 10)

STUDIUM UND PROMOTION

07.1994 - 06.1999

• Institution: Technische Universität von Moldavien
• Fachbereich: Elektronik und Kommunikation
• Spezialisierung: Mikroelektronik - medizinische Elektronik
• Abschluss: Lizenzdiplom (Akademisches Diplom, Dipl.-Ing.)
• Gesamtnote: 10 (sehr gut)

07.1999 - 11.1999

• Institution: Akademie der Wissenschaften der Republik Moldau
• Tätigkeit: Junior-Wissenschaftler

12.1999 - 12.2000

• Institution: Christian-Albbrechts Universität zu Kiel
• Tätigkeit: Gastwissenschaftler an der Technische Fakultät
• Wissenschaftliche Publikationen: 2 wissenschaftliche Publikationen

01.2001 - 04.2004

• Institution: Christian-Albbrechts Universität zu Kiel
• Fachbereich: Materialwissenschaft
• Publikationen: 30 wissenschaftliche Publikationen, 1 Buch
• Disertation: Elektrichemische Poren Aetzung in III-V-Verbindungen (in Englisch)
• Abschluss: Doktor der Ingenieurwissenschaften (Dr.-Ing.)
• Gesamturteil: mit Auszeichnung (summa cum laude)

BERUFLICHE TAETIGKEITEN

05.2004 - 04.2006

Infineon Dresden, fürende Mikroelektronik-Unternehmen, ~6000 Mitarteiter

• Position: Systemingenieur in der Fertigungsentwicklung
• Aufgabengebiet: Produkttechnik / Wafer Yield Enhancement

Schwerpunkte:

1. Ausbeute- und Qualitätsverbesserung von 90nm "Deep Trench" DRAM-Technologien
2. Statistische Analyse und Fehlersuche auf der Produkttechnik-Ebene: Screen Limited Yield (SCNLY) Analysen: DT/STI/GC/MOL/BEOL
3. Mitwirkung im internationalen Projekt "INTA" (Infineon-Nanya Trench Aliance)

05.2006 - z.Z.

Qimonda Dresden (ehemalige Infineon DRAM Sparte), DRAM Speicher Anbieter, ~3000 Mitarteiter

• Position: Systemingenieur/Senior-Ingenieur in der Fertigungsentwicklung
• Aufgabengebiet: Produkttechnik / Wafer Yield Enhancement

Schwerpunkte:

1. Produkt betreung von 80nm, 75nm "Deep Trench" DRAM-Technologien und 65nm "Burried Wordline" DRAM-Technologie
2. Versuchsplanung und Versuchsauswertung.
3. Test Sequence Limited Yield (TSLY) Analysen
4. Beratung der Integration Ingenieure über die Prozess Umstellungen.

WEITERE KENNTNISSE

EDV Programmiersprachen:

• Borland Delphi (Pascal), C++, HTML, PHP, MySQL
• Betriebssysteme: Windows XP, Vista
• MS-Office Anwendungen: Word, Excel, Acces
• Statistik Anwendungen: Cornerstone, RS1

Sprachen

• Deutsch - sicher in Wort und Schrift (Zertifikat Deutsch I)
• Englisch - sicher in Wort und Schrift (ständiger beruflicher Gebrauch)
• Russisch - sicher in Wort und Schrift (Dies war ein "Muss" für Menschen aus der ehemaligen Sowjetunion.)
• Rumänisch - Muttersprache

Weiterbildung

• Diverse konzerninterne Seminare zwischen 2004 und 2009, z.B. CMOS:
• Halbleiter Technologie, FMEA, DOE, SPC, Cornerstone
• Erfolgreich Praesentieren

MITGLIEDSCHAFTEN

• Alumni Uni Kiel
• Deutsche Physikalische Gesellschaft
• ADAC

HOBBYS

• Füßball
• Handball
• Fachliteratur
• Webdesign (persoenliches webprojekt: www.invata-in.eu)

Führerschein: Klasse B

Dresden, 02.01.2009

Publikationen:

- Disertation

Dr.-Ing. Sergiu Langa

E-mail sergiu@invata-in.eu

LEBENSLAUF

(English version)